三星顯示器和LG顯示器正在考慮引入有關(guān)ALD（原子層沉積）技術(shù)Ø柔性O(shè)LED薄膜封裝工藝。他們倆已經(jīng)合作了他們的合作伙伴對設(shè)備和檢驗設(shè)備ALD內(nèi)部。因為當(dāng)使用ALD技術(shù)保護的有機材料的氧和水增加的影響，生活和靈活的OLED面板的性能可以提高整體。
據(jù)了解，三星顯示器和LG顯示器正在準(zhǔn)備推出ALD技術(shù)，柔性O(shè)LED工藝。WONIKIPS，AP系統(tǒng)和TES對顯示器ALD技術(shù)和設(shè)備。LG顯示器已經(jīng)完成了ALD做研究，并已開始開發(fā)引進ALD技術(shù)，柔性O(shè)LED工藝而三星顯示器正在迅速引進ALD技術(shù)。
盡管兩家公司都做完的ALD技術(shù)的研發(fā)，他們感到對實際引進ALD技術(shù)作為他們正在積極投資于柔性O(shè)LED設(shè)施的可能性。他們完成了在做研發(fā)，并已進入了開發(fā)階段ALD技術(shù)商業(yè)化。
OLED，這是一種有機材料的缺點是，它是對水和氧的弱。為了保護OLED，薄膜覆蓋在OLED的多次頂保護OLED水和氧氣。盡管這是用于保護OLED薄膜數(shù)目是面板制造商之間不同，它們使用覆蓋的OLED與有機薄膜和無機薄膜或者約3至5倍的方法。
通常PECVD（等離子體增強化學(xué)氣相沉積），濺射和而Kateeva的噴墨印刷技術(shù)用于有機薄膜沉積的ALD技術(shù)，可用于無機薄膜封裝。無論三星顯示器和LG顯示器使用PECVD技術(shù)形成無機薄膜。
一個原因是他們最近考慮引進，而不是PECVD技術(shù)ALD是因為改善生活和靈活的有機發(fā)光二極管性能的重要性已變得更大。事實上，雖然柔性O(shè)LED的需求正在提高生產(chǎn)率正在下降也是另一個問題。
ALD技術(shù)是CVD（化學(xué)氣相沉積）中的一個。它注入原料包括的ALD金屬和反應(yīng)氣體交替地和形式在原子水平上的薄膜。它可以把細薄膜具有高度均勻成的人具有較大的地區(qū)。如果它與MLD（分子層沉積）形成在分子水平上的有機材料的技術(shù)使用的，甚至可以在低溫下形成的保護有機發(fā)光二極管從水和氧氣的障礙許多層。
當(dāng)它被施加到顯示器的ALD技術(shù)的優(yōu)勢是，它可以最小化的雜質(zhì)，并形成薄膜的厚度相同。由于ALD技術(shù)實現(xiàn)了薄膜具有較高的質(zhì)量，保護有機發(fā)光二極管由水和氧氣的增加效果。如果無機薄膜的厚度在不同的納米被實現(xiàn)并層壓替代地，總薄膜厚度和水蒸氣傳輸速率可以被最小化。
事實ALD技術(shù)可以通過實施多種薄膜編隊克服目前的CVD法的限制也被視為ALD的實力。
ALD的介紹是由于精確的工藝半導(dǎo)體工業(yè)中非常活躍。然而顯示器行業(yè)一直猶豫不決引入ALD，因為它的成本比PECVD更多有關(guān)于應(yīng)用到大面積和沉積的速度問題。然而實際引進的可能性已經(jīng)上升為問題都在一個恒定的水平近期得到解決。
“雖然ALD和PECVD不能被泛化相提并論，ALD沉積的速度比PECVD大約慢10倍。”一個行業(yè)的代表說。“雖然從低沉積速度和應(yīng)用低生產(chǎn)率到大面積是最大的障礙，實際上引入ALD技術(shù)的可能性是值得思考，如果能形成薄膜的高品質(zhì)甚至更薄。”
01月07日 18:14
